制造甘愿(甘愿的近义词是什么)

提到mask aligner，首先要想到的是mask aligner，一款来自荷兰的高端芯片。至于光刻机的工作原理，和冲洗照片很像。需要光刻机的紫外线，然后去掉晶片表面的保护膜，再用紫外线把之前设计好的精密电路刻在晶片上。不过这个说起来容易做起来难，因为光刻机的性能不同，所以芯片的纳米尺度也不同。

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目前在光刻机中制作的芯片可以分为5-7纳米、7-28纳米、28-65纳米、65-90纳米等。而且随着全球科技的不断发展，芯片在各个国家都扮演着非常重要的角色。因为芯片的需求量一直都比较大，无论是航天领域，民航客机，汽车，手机等领域。那么为什么世界上几十个发达国家，只有荷兰能做出高端的光刻机，连美国也只能“心甘情愿”充当辅助和配角？说到光刻机最初的发展，要追溯到上世纪六七十年代。当时美国研发的光刻机，世界顶尖。当然，这和当时光刻机简单的工作原理有关。

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当时的光刻机是用光把电路图掩膜画在光敏胶的晶片上，当时的晶片大概一寸大小。80年代以后，在美国的支持下，日本的半导体产业也开始走向“巅峰”，甚至从最初需要美国的帮助，直接超越了后者，在半导体产业出口量上领先世界。1984年，荷兰光刻厂成立后，由于无人能撼动美国和ASML在半导体领域的地位，当时的日本公司只接到一些小订单。1997年，美国半导体巨头英特尔和美国能源部成立了EUV前沿技术组织，使摩托罗拉和AMD脱颖而出。

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后来ASML及时抓住了机会，在美国成功建厂。然而，为了得到美国的认可，ASML开发的产品中55%的原材料必须来自美国供应商。此后，ASML在光刻机领域迅速崛起，随着时间的沉淀，在高端光刻机领域取得了无与伦比的成功。

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结果，ASML研制的光罩对准器现在重达180吨，价格高达约1.2亿美元。此外，即使购买了ASML公司开发的EUV光刻机，该公司的专业人员仍然需要调试设备，这需要长达一年的时间。当然，在ASML研发的光刻机中，美国光源占27%，荷兰和英国光源占32%，日本和德国光源占一定比例。不难看出，美国在光刻机领域已经无法与ASML相提并论，所以只能选择在幕后“帮忙”。这与美国制造业的衰落密切相关。

(文/华强)

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